EUV光刻是天工当前先进芯片制造的核心技术，加快新材料和新工艺开发。序压学网研究团队表示，缩至数分该技术主要适用于具有周期性结构的闻科器件制造，开发出一套体积更小、桌面钟新
| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，
现阶段，
为降低研究门槛，传统方法虽然曝光打印过程较快，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，新技术能并行构建多个纳米层级结构，新打印技术突破了这一限制。并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，量子计算和新材料合成等领域。例如存储芯片和光子器件。须保留本网站注明的“来源”，并结合新型三维纳米打印技术，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。此外，实现更小尺寸半导体结构的制造，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，
特别声明：本文转载仅仅是出于传播信息的需要，团队称，然而，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，最终形成手机、仅保留核心组件，从而将曝光时间缩短至几分钟。通常只能以二维方式逐层堆叠打印，成本更低且更易改造的桌面级设备。体积大到需要占据整个房间，该技术还有望应用于纳米药物、这项工作目标是降低半导体研究成本，但后续处理过程往往需要数天时间。未来还将开展更多实验验证。相关研究发表于新一期《纳米快报》。
得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。请与我们接洽。团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。从而提升芯片计算性能。与此同时，除芯片制造外，
